鹽霧試驗(yàn)箱廠家中鹽霧地基沉降率，就是指單位時(shí)間本質(zhì)企業(yè)總面積上地基沉降的鹽霧量，是鹽霧測(cè)試的一個(gè)關(guān)鍵主要參數(shù)，體現(xiàn)噴霧器相對(duì)密度和勻稱性的特點(diǎn)。
 

 

　　鹽霧測(cè)試的腐蝕造成，除腐蝕物質(zhì)氯離子含量自身的功效外，還受金屬表層 液膜中氧的外擴(kuò)散危害。鹽霧顆粒越密，所產(chǎn)生的面積越大，被吸咐的氧濃度越多，腐蝕也越強(qiáng)。大自然中，90%之上耐腐蝕顆粒的直徑為1Lm下列。研究表明:直徑1Lm的耐腐蝕顆粒表層所吸咐的氧濃度與顆粒內(nèi)部融解的氧濃度是相對(duì)性均衡的。鹽霧顆粒再小,所吸咐的氧濃度也已不提升。但假如液膜中的氧是靜止不動(dòng)的，當(dāng)液膜與金屬材料觸碰，金屬材料會(huì)迅速腐蝕，另外液膜中的氧也快速降低，使腐蝕反映緩減。假如液膜不斷創(chuàng)新，腐蝕便會(huì)持續(xù)開(kāi)展。

 

　　金屬表層液膜的升級(jí)速率隨鹽霧試驗(yàn)箱廠家中，鹽霧地基沉降率的提升而加速。鹽霧地基沉降率太低，便會(huì)危害到金屬表層 液膜的升級(jí)速率。當(dāng)?shù)鼗两德实陀?.3ML/80cm2·h時(shí)，浸蝕速率隨地基沉降率的提升而提升。這是由于金屬表層 液膜較薄，氧迅速抵達(dá)負(fù)極表層，故浸蝕率會(huì)遲緩升高，并逐漸趨于平穩(wěn);當(dāng)?shù)鼗两德食?.1mL/80cm2·h時(shí)，液膜再次變厚，氧擴(kuò)散距離增加，抵達(dá)負(fù)極表層艱難，腐蝕速率反倒不加速。因而,取適度的鹽霧地基沉降率,使腐蝕速率平穩(wěn),實(shí)驗(yàn)結(jié)果再現(xiàn)性好。一般規(guī)定耐腐蝕地基沉降率能在1~1mL/80cm2·h范疇內(nèi),以確保鹽霧試驗(yàn)箱廠家中實(shí)驗(yàn)結(jié)果的準(zhǔn)確性。