在應(yīng)用鹽霧試驗(yàn)箱開(kāi)展鹽霧測(cè)試前，試件依涂層特性與清理水平而須做適度清理，不可以應(yīng)用研磨液及具備浸蝕或抑制效果之有機(jī)溶劑清理，且清理方式不可損害表層。對(duì)于不銹鋼板試件應(yīng)用氰化鈉清理與鈍化處理。試件經(jīng)清理后(根據(jù)發(fā)水溶性實(shí)驗(yàn))以整潔之布或吸水海綿將水分擦拭，或用隔膜真空泵之干躁氣體烘干。
 

 

　　注：迫不得已時(shí)，應(yīng)用氧化鎂膏，此泥狀物乃20g試藥級(jí)氧化鎂添加100ml的純凈水中。

 

　　既非另有要求，不然試件創(chuàng)口及因掛鉤而導(dǎo)致的墻面或者材料外露部分，或因鑒別標(biāo)記所導(dǎo)致涂層陷處，于實(shí)驗(yàn)特應(yīng)覆以適合保護(hù)層厚度。如硬蠟(ceresinwax)丁二烯膠布等絕緣物。

 

　　手紋污染會(huì)造成嚴(yán)重的不良試驗(yàn)結(jié)果，試樣于清凈后不得有任何手紋的污染。

 

　　實(shí)驗(yàn)中鹽霧試驗(yàn)箱實(shí)驗(yàn)房間內(nèi)試件的部位須合乎以下標(biāo)準(zhǔn)：

 

　　1、試件之關(guān)鍵表層與鉛垂線(xiàn)成15°至30°之歪斜，又自實(shí)驗(yàn)室上邊俯瞰時(shí)，要與噴霧器之關(guān)鍵流動(dòng)性方位平行面。獨(dú)特零件具備許多 方位的關(guān)鍵表層必須另外檢測(cè)時(shí)，可用多份試件放置，盡量使每一個(gè)關(guān)鍵表面另外接納食鹽水的噴霧器。

 

　　2、試件之排序。應(yīng)以噴霧器隨意地落至所有試片上，不可防凝噴霧器之隨意落下來(lái)。

 

　　3、開(kāi)展鹽霧測(cè)試的試件不能相互之間觸碰，也不能觸碰到金屬性電導(dǎo)體或有擴(kuò)散現(xiàn)象功效之化學(xué)物質(zhì)，及其別的適用架之外的東西。

 

　　4、鹽水溶液勿從一個(gè)試樣滴流至其他試樣上。

 

　　5、試樣識(shí)別號(hào)或裝配孔應(yīng)覆于下方。